Вольфрамовый лист 10х1000х1500 мм В-МП в Норильске

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.

Листы ВА, ВД, а также ВР-20 и ВР-27ВП обеспечивают максимальную химическую инертность в средах, где отсутствуют агрессивные окислители или галогены. Эти материалы сохраняют стабильность при сверхвысоких температурах в вакууме, инертных газах и водороде.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.

Вольфрамовые листы с зеркальной поверхностью необходимы для применений, требующих максимального термического отражения или минимальной эмиссии. Это актуально для тепловых экранов вакуумных печей, оптических систем или подложек для высокоточного осаждения тонких пленок, где важна гладкость.

Устойчивость вольфрамового листа к воздействию серной кислоты с концентрацией 98% при нагреве низкая. Горячая концентрированная серная кислота является сильным окислителем и вызывает активную коррозию вольфрама, образуя вольфрамовую кислоту или сульфаты.

Для работы в среде азотной кислоты с концентрацией 70% при 60°С вольфрамовый лист непригоден. Вольфрам подвержен интенсивной коррозии в горячих концентрированных окислительных кислотах, включая азотную, образуя вольфрамовую кислоту.