Танталовый лист 0,5х70х100 мм ТВЧ в Норильске

Для использования в условиях вакуума при температурах до 1500°C без значительного испарения подходят танталовые листы марки ТВЧ и легированные вольфрамом марки ТВ-10. Тантал имеет очень низкое давление паров при этих температурах, что обеспечивает его стабильность и минимальную потерю массы.

Танталовый лист марки ТВЧ сохраняет свои свойства в широком спектре кислых сред при температурах выше 150°C. Это включает концентрированные серную, соляную, фосфорную, хромовую кислоты, а также большинство органических кислот. Исключения составляют фтористоводородная кислота и среды, содержащие фторид-ионы.

Для повышения твердости танталового листа могут применяться покрытия, такие как нитрид тантала (TaN) или карбид тантала (TaC), нанесенные методами физического или химического осаждения из газовой фазы. Эти покрытия значительно увеличивают износостойкость поверхности при сохранении коррозионной стойкости основы.

Танталовый лист демонстрирует высокую стойкость в сильноокисляющих кислотах, таких как концентрированная хромовая кислота. В этих условиях на его поверхности формируется прочная пассивная оксидная пленка, которая эффективно защищает металл от дальнейшей коррозии.

При длительном воздействии высоких температур (до 1000°C) в атмосфере водорода танталовый лист, особенно марки ТВЧ, может поглощать водород. Это приводит к водородному охрупчиванию, снижению пластичности и, как следствие, ухудшению механических свойств и надежности материала.

Танталовый лист марки ТВЧ сохраняет свою пластичность и не подвержен хладноломкости при низких температурах, вплоть до -196°C. Это свойство делает его пригодным для криогенных применений, где большинство других металлов становятся хрупкими.

Присутствие кислорода в высокочистой воде при 250°C способствует формированию стабильной и пассивной оксидной пленки на поверхности танталового листа. Это значительно улучшает его коррозионную стойкость. Без кислорода оксидная пленка может быть менее устойчивой, что потенциально увеличивает скорость растворения.